0100, TELEKOMUNIKACJA, eng, --Światłowody (koksa)

0100

0100, TELEKOMUNIKACJA, eng, --Światłowody (koksa)

[ Pobierz całość w formacie PDF ]
Technologia światłowodów
planarnych i włókien
światłowodowych
Prezentacja zawiera kopie folii omawianych na wykładzie. Niniejsze
opracowanie chronione jest prawem autorskim. Wykorzystanie
niekomercyjne dozwolone pod warunkiem podania źródła.
© Sergiusz Patela 1998-2001
Technologia światłowodów
planarnych i warstw optycznych
Prezentacja zawiera kopie folii omawianych na wykładzie. Niniejsze
opracowanie chronione jest prawem autorskim. Wykorzystanie
niekomercyjne dozwolone pod warunkiem podania źródła.
© Sergiusz Patela 1998-2001
Zestawienie metod wytwarzania światłowodów planarnych
1 .Parowanie (radiacyjne lub z działa elektronowego)
2 .Napylanie warstw dielektrycznych
3. Osadzanie z roztworów
4. Polimeryzacja w wyładowaniu
5. Osadzanie chemiczne z fazy gazowej (CVD)
6. Hydroliza płomieniowa (FHD)
heterogeniczne
6. Dyfuzja domieszki
7. Wymiana jonowa
8. Implantacja jonów
homogeniczne
9. Efekt falowodowy przy obniżeniu koncentracji nośników
10. Światłowody elektrooptyczne
11. Warstwy epitaksjalne
półprzewodniki
(c) Sergiusz Patela 1995-2000
Technologia światlowodów planarnych
3
Parowanie (radiacyjne lub z działa elektronowego)
Przykład
: Parowanie szkła C-7059, charakterystyka procesu technologicznego
Element procesu
Wartość
Uwagi
Metoda
Parowanie z działa elektronowego
Materiał źródłowy
Szkło Corning 7059
Podłoże
Utleniony krzem
> 2
m. SiO
2
Ciśnienie
1x10-4 do 5x10-4 Torr (O
2
)
Dodanie O
2
zmniejszało tłumienie
Szybkość nanoszenia
1
2 nm/s
Maksymalna grubość
3
4
m.
Bez pęknięć i utraty adhezji
Temperatura źródła
900
C
Pomiar pirometrem optycznym
Tłumienie warstwy
0.5 dB/cm
pomiar metodą podwójnego pryzmatu
Współczynnik załamania
1.50
pomiar elipsometrem 633 nm
Metody pomiaru składu
warstw
Mikrosonda elektronowa (zawartość
Al., Si, Ba), Neutron activation analysis
(zawartość B), Rutherford
backscattering (RBS) (profile składu Si i
Ba)
(c) Sergiusz Patela 1995-2000
Technologia światlowodów planarnych
4
Napylanie warstw dielektrycznych - zasada i materiały
Target tantalowy
Metodami napylania jonowego można
wykonać:
Ar
Ta
•Światłowód - podłoże:
•Corning-7059 -szkło /KDP
•Ta
2
O
5
- SiO
2
(utleniony krzem)
•Nb
2
O
5
- SiO
2
(topiony)
•ZnO - SiO
2
O
2+
Ar
+
Ta
2
O
5
, Nb
2
O
5
można wykonać metodami
rozpylania jonowego lub utleniając warstwę
metalu.
T
2
O
5
(c) Sergiusz Patela 1995-2000
Technologia światlowodów planarnych
5
[ Pobierz całość w formacie PDF ]

Podobne

: Strona Główna

: (ENG) Beading - Jewelry Making & Beading for Dummies-robienie bizuterii dla idiotow, DIY, Biżuteria

: [ENG] Nude & Photo, Nude & glamur

: (Coobook - ENG) - Xmass in India - (Scan-Book from India) by gocha2308, Przepisy!!!Zrób i skosztuj

: (Coobook - ENG) - Diwali Indian Sweets - (Scan-Book from India), kuchnia indyjska, Przepisy!!!Zrób i skosztuj

: Śmierć w Wenecji-Morte a Venezia.1971.HD DVDRip.XviD.Napisy ENG 4, Pliki Mietushek

: (Coobook - ENG) - Indian Bread - (Scan-Book from India), kuchnia indyjska, Przepisy!!!Zrób i skosztuj